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真空前鋒電鍍加工的工藝流程

文章出處:新聞動態(tài) 責(zé)任編輯:子華(東莞)科技有限公司 發(fā)表時間:2021-08-20
  

濕法工藝:1.化學(xué)浸鍍、2.電鍍、3.噴導(dǎo)電涂料

干法工藝:1.真空蒸鍍、2.陰極濺鍍、3.離子鍍、4.燙金、5.熔融噴鍍

真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬,使其熔融、蒸發(fā),冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。

常用的金屬是鋁等低熔點金屬。

加熱金屬的方法:

有利用電阻產(chǎn)生的熱能,也有利用電子束的。

在對塑料制品實施蒸鍍時,為了確保金屬冷卻時所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形,必須對蒸鍍時間進行調(diào)整。 此外,熔點、沸點太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。

置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使金屬蒸發(fā)或升華,金屬蒸汽遇到 冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。

在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa,對于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場合,則 要求壓力更低( 10-5Pa )。

真空前鋒電鍍加工的工藝流程的圖片

鍍層厚度0.04-0.1um,太薄,反射率低;太厚,附著力差,易脫落。厚度0.04時反射率為90%

** 真空離子鍍,又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較流行的做法,做出來的產(chǎn)品金屬感強,亮度高. 而相對其他的鍍膜法來說,成本較低,對環(huán)境的污染小,現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用.

真空電鍍適用范圍較廣,如ABS料、ABS+PC料、PC料的產(chǎn)品.同時因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高,單價比水電鍍昂貴.現(xiàn)對其工藝流程作簡要介紹:產(chǎn)品表面清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆 --〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝.

一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆,再做電鍍.由于素材是塑料件,在注塑時會殘留空氣泡,有機氣體,而在放置時會吸入空氣中的水分.另外,由于塑料表面不夠平整,直接電鍍的工件表面不光滑,光澤低,金屬感差,并且會出現(xiàn)氣泡,水泡等不良狀況.噴上一層底漆以后,會形成一個光滑平整的表面, 并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產(chǎn)生,使得電鍍的效果得以展現(xiàn).

真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等.

水電鍍因工藝較簡單,從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒有真空離子鍍苛刻,從而被廣泛應(yīng)用.但水電鍍有個弱點,只能鍍ABS料和ABS+PC料(此料鍍的效果也不是很理想).而ABS料耐溫只有80℃,這使得它的應(yīng)用范圍被限制了.而真空電鍍可達200℃左右,這對使用在高溫的部件就可以進行電鍍處理了.像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)使用PC料,這些部件均要求耐130℃的高溫.另,一般要求耐高溫的部件,做真空電鍍都要在最后噴一 層UV油,這樣使得產(chǎn)品表面即有光澤、有耐高溫、同時又保證附著力.

兩種工藝的優(yōu)缺點:

A、簡單來說,真空電鍍不過UV油,其附著力很差,無法過百格TEST,而水電鍍的明顯好于真空電 鍍!因此,為保證真空電鍍的附著力,均需后續(xù)進行特殊的噴涂處理,成本當然高些.

B、水電鍍顏色較單調(diào),一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種,對于閃銀、魔幻藍、裂紋、水滴銀等五花 八門的七彩色就無能為力了.而真空電鍍可以解決七彩色的問題.

C、水電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價鉻”,這是非環(huán)保材料.對于“六價鉻”有如下的要求:

歐盟: 76/769/EEC:禁止使用; 94/62/EC:<100ppm;

ROHS:<1000ppm

如此嚴格的要求,國內(nèi)一些廠家已開始嘗試使用“三價鉻”來替代“六價鉻”;而真空電鍍使用的鍍層材質(zhì) 廣泛、容易符合環(huán)保要求.

簡單一點,就是在真空狀態(tài)下將需要涂覆在產(chǎn)品表面的膜層材料通過等離子體離化后沉積在工件表面的 表面處理技術(shù).

它有真空蒸發(fā)鍍,濺射鍍,離子鍍等,獲得這些沉積方法的途徑有多種:電加熱、離子束、電子束、直流濺射、磁控濺射、中頻濺射、射頻建設(shè)、脈沖濺射、微波增強等離子體、多弧等等很多種方法,可以根據(jù) 的需求和經(jīng)濟技術(shù)條件考慮選用的涂層設(shè)備.

對于傳統(tǒng)的濕發(fā)電鍍,真空電鍍具有以下優(yōu)點:

1.沉積材料廣泛:可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬,通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可 以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層,而且可以根據(jù)需要設(shè)計涂層體系.

2.節(jié)約金屬材料:由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當優(yōu)良,沉積的鍍層可以遠遠 小于常規(guī)濕法電鍍鍍層,達到節(jié)約的目的.

3.無環(huán)境污染:由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面,沒有溶液污染,所以 對環(huán)境的危害相當小.

但是由于獲得真空和等離子體的儀器設(shè)備精密昂貴,而且沉積工藝還掌握在少數(shù)技術(shù)人員手中,沒有大量被推廣,其投資和日常生產(chǎn)維護費用昂貴.但是隨著社會的不斷進步,真空電鍍的優(yōu)勢會越來越明顯,在 某些行業(yè)取代傳統(tǒng)的濕法電鍍是大勢所趨!

真空前鋒電鍍加工的工藝流程

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