濕法工藝：1.化學(xué)浸鍍、2.電鍍、3.噴導(dǎo)電涂料

干法工藝：1.真空蒸鍍、2.陰極濺鍍、3.離子鍍、4.燙金、5.熔融噴鍍

真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。

常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。

加熱金屬的方法：

有利用電阻產(chǎn)生的熱能，也有利用電子束的。

在對(duì)塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí)，為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹(shù)脂變形，必須對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。 此外，熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。

置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到 冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。

在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過(guò)程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對(duì)于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合，則 要求壓力更低（ 10-5Pa ）。

鍍層厚度0.04-0.1um,太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時(shí)反射率為90%

** 真空離子鍍，又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較流行的做法，做出來(lái)的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高． 而相對(duì)其他的鍍膜法來(lái)說(shuō)，成本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用．

真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、ABS+PC料、PC料的產(chǎn)品.同時(shí)因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍昂貴.現(xiàn)對(duì)其工藝流程作簡(jiǎn)要介紹：產(chǎn)品表面清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆 --〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝.

一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍．由于素材是塑料件，在注塑時(shí)會(huì)殘留空氣泡，有機(jī)氣體，而在放置時(shí)會(huì)吸入空氣中的水分．另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會(huì)出現(xiàn)氣泡，水泡等不良狀況．噴上一層底漆以后，會(huì)形成一個(gè)光滑平整的表面， 并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產(chǎn)生，使得電鍍的效果得以展現(xiàn)．

真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等.

水電鍍因工藝較簡(jiǎn)單，從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒(méi)有真空離子鍍苛刻，從而被廣泛應(yīng)用.但水電鍍有個(gè)弱點(diǎn)，只能鍍ABS料和ABS+PC料（此料鍍的效果也不是很理想）.而ABS料耐溫只有80℃,這使得它的應(yīng)用范圍被限制了.而真空電鍍可達(dá)200℃左右，這對(duì)使用在高溫的部件就可以進(jìn)行電鍍處理了.像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)使用PC料，這些部件均要求耐130℃的高溫.另，一般要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在最后噴一 層UV油，這樣使得產(chǎn)品表面即有光澤、有耐高溫、同時(shí)又保證附著力.

兩種工藝的優(yōu)缺點(diǎn)：

A、簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，真空電鍍不過(guò)UV油，其附著力很差，無(wú)法過(guò)百格TEST，而水電鍍的明顯好于真空電 鍍！因此，為保證真空電鍍的附著力，均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理,成本當(dāng)然高些.

B、水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對(duì)于閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等五花 八門(mén)的七彩色就無(wú)能為力了.而真空電鍍可以解決七彩色的問(wèn)題.

C、水電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價(jià)鉻”，這是非環(huán)保材料.對(duì)于“六價(jià)鉻”有如下的要求：

歐盟： 76/769/EEC：禁止使用； 94/62/EC：<100ppm；

ROHS：<1000ppm

如此嚴(yán)格的要求，國(guó)內(nèi)一些廠家已開(kāi)始嘗試使用“三價(jià)鉻”來(lái)替代“六價(jià)鉻”；而真空電鍍使用的鍍層材質(zhì) 廣泛、容易符合環(huán)保要求.

簡(jiǎn)單一點(diǎn)，就是在真空狀態(tài)下將需要涂覆在產(chǎn)品表面的膜層材料通過(guò)等離子體離化后沉積在工件表面的 表面處理技術(shù).

它有真空蒸發(fā)鍍，濺射鍍，離子鍍等，獲得這些沉積方法的途徑有多種：電加熱、離子束、電子束、直流濺射、磁控濺射、中頻濺射、射頻建設(shè)、脈沖濺射、微波增強(qiáng)等離子體、多弧等等很多種方法，可以根據(jù) 的需求和經(jīng)濟(jì)技術(shù)條件考慮選用的涂層設(shè)備.

對(duì)于傳統(tǒng)的濕發(fā)電鍍，真空電鍍具有以下優(yōu)點(diǎn)：

1.沉積材料廣泛：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無(wú)法沉積的低電位金屬，通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可 以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設(shè)計(jì)涂層體系.

2.節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當(dāng)優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠(yuǎn)遠(yuǎn) 小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達(dá)到節(jié)約的目的.

3.無(wú)環(huán)境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過(guò)等離子體沉積在工件表面，沒(méi)有溶液污染，所以 對(duì)環(huán)境的危害相當(dāng)小.

但是由于獲得真空和等離子體的儀器設(shè)備精密昂貴，而且沉積工藝還掌握在少數(shù)技術(shù)人員手中，沒(méi)有大量被推廣，其投資和日常生產(chǎn)維護(hù)費(fèi)用昂貴.但是隨著社會(huì)的不斷進(jìn)步，真空電鍍的優(yōu)勢(shì)會(huì)越來(lái)越明顯，在 某些行業(yè)取代傳統(tǒng)的濕法電鍍是大勢(shì)所趨！