?真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。真空電鍍加工具有一系列獨特的加工特點，以下是對這些特點的詳細歸納：
⑴原理與膜層質量：
真空電鍍利用真空環(huán)境下的物理氣相沉積原理，通過電弧、電子束或磁控濺射等方式，將金屬蒸汽沉積到基材表面形成金屬薄膜。
在真空條件下鍍膜，膜層不易受污染，獲得的膜層純度高、致密性好、厚度均勻，具有良好的附著力和耐腐蝕性。
⑵適用范圍廣：
真空電鍍技術可廣泛應用于塑料、玻璃、金屬等各類基材的表面處理，適用性廣泛。
膜材和基體材料有廣泛的選擇性，可以制備各種不同功能的薄膜。
⑶環(huán)保性：
真空電鍍生產(chǎn)過程中無廢水、廢氣排放，符合環(huán)保要求。
產(chǎn)品中鎳、鉻元素是零價的，對人體無害。
⑷加工類型與周期：
真空電鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。
例如，真空蒸鍍過程中金屬（最常用的鋁）的熔融、蒸發(fā)僅需幾秒鐘，整個周期一般不超過15秒，鍍層厚度為0.8-1.2uM。
⑸表面特性與用途：
真空電鍍得到的表面鍍層非常薄，但附著力好，同時具有速度快的特點。
真空電鍍廣泛應用于家用電器、化妝品包裝等領域。若其硬度能達到水電鍍的等級，水電鍍可能會被取代。
⑹成本考慮：
真空電鍍的價格通常較高，因為其所用的設備和工藝相對復雜。
盡管如此，由于其高質量的表面處理和廣泛的應用范圍，真空電鍍在許多高端產(chǎn)品中仍然非常受歡迎。
⑺技術細節(jié)：
真空電鍍技術可以確保鍍層均勻、致密，且色澤一致。
對于具有旋轉磁控濺射鍍膜技術的設備，靶材利用率可以達到70-80%以上，進一步提高了加工效率和材料利用率。