真空電鍍鍍膜技術性是真空應用技術的一個主要支系。已普遍應用于電子光學、電氣專業(yè)、能源、物理化學儀器設備、工程機械設備、包裝、民用產品、表面科學合理和科研等行業(yè)。

用于真空電鍍鍍膜的方式 具體有揮發(fā)鍍、磁控濺射鍍、等離子噴涂、束堆積鍍和分子結構束外延性，也有化學氣相沉積。
假如說真空電鍍鍍膜的目地是更改原材料表面的物理學特性，那麼此項技術性支配權便是真空表面解決技術性的關鍵組成部分。下邊將詳細介紹真空電鍍鍍膜的首要運用層面。
在電子光學中，一塊光學鏡片或石英石涂有一層或雙層不一樣成分的薄膜，這種薄膜可以越來越高反射或者非反射（即抗反射涂層），或當做一切資料的反射或電子散射原材料需要的占比。
可以制做吸收特殊光波長并電子散射另一光波長的濾光片。從大口徑天文望遠鏡和各種激光發(fā)生器，到新建筑中采用的梔子花大飄窗涂層，都必須真空電鍍鍍膜技術性。
減反射涂層普遍用于拍攝和各種激光，而且是新建筑的大窗子所必須的。防反射涂層普遍用于數碼相機和電視攝像機的畫面。
真空電鍍鍍膜在電子設備中具有主要影響力。各種尺寸的承繼電路。包含存儲器、運算器、標示邏輯性元器件等，務必應用導電膜、絕緣層膜和防護膜。鉻膜作為制造電路的掩膜。